高壓除泡機(jī)的工作原理 高壓除泡機(jī)利用高壓力來去除氣泡。ELT的高壓除泡機(jī)配備可調(diào)節(jié)的壓力控制系統(tǒng),可以根據(jù)封裝材料的要求進(jìn)行精確調(diào)整。通過施加適當(dāng)?shù)膲毫?,能夠快速去除氣泡,從而達(dá)到除泡效果。 ELT真空除泡機(jī)的特點(diǎn) 出色的除泡能力:ELT真空除泡機(jī)具有**的除泡能力,能夠快速有效地去除半導(dǎo)體封裝過程中產(chǎn)生的氣泡和雜質(zhì),確保封裝的質(zhì)量和穩(wěn)定性。 多功能應(yīng)用:真空除泡機(jī)適用于各種類型和規(guī)格…
查看詳情硅通孔封裝(Through Silicon Via, TSV)互連是集成電路中一種系統(tǒng)級(jí)架構(gòu)的新方法,是2.5D和3D封裝中堆疊芯片實(shí)現(xiàn)互連的關(guān)鍵技術(shù)解決方案?! SV可堆疊多片芯片,在芯片鉆出小洞,從底部填充入金屬, 硅晶圓上以蝕刻或激光方式鉆孔,再以導(dǎo)電材料如銅、多晶硅、鎢等物質(zhì)填滿。TSV能夠使芯片在三維方向堆疊,通過垂直互連減小互聯(lián)長(zhǎng)度,減小信號(hào)延遲,降低芯片的電容和電感,實(shí)…
查看詳情在使用光刻膠時(shí),我們往往會(huì)遇到氣泡的問題,而且氣泡的存在往往會(huì)直接影響光刻質(zhì)量,因此我們需要搞清楚氣泡產(chǎn)生的原因和怎樣消除氣泡帶來的不良影響。光刻膠的氣泡產(chǎn)生的因素是多種多樣的,想要搞清楚氣泡產(chǎn)生的原因,我們需要按照出現(xiàn)(或者發(fā)現(xiàn))氣泡產(chǎn)生的環(huán)節(jié)進(jìn)行分析,接下來我們按照涂膠烘烤過程、曝光過程來介紹幾種常見的氣泡產(chǎn)生原因和消除方法: 旋涂光刻膠時(shí)發(fā)現(xiàn)氣泡 在涂布光刻膠前如果光刻膠瓶子有搖動(dòng)或…
查看詳情晶圓級(jí)真空壓膜機(jī)是一種高精度的加工設(shè)備,通常被用于半導(dǎo)體工業(yè)中的制造過程。該設(shè)備采用真空技術(shù)和壓力控制技術(shù)對(duì)物料進(jìn)行加工和涂覆,從而獲得更高質(zhì)量的半導(dǎo)體材料和元器件。目前市面上有許多品牌的晶圓級(jí)真空壓膜機(jī),本文將為您介紹其中幾個(gè)比較知名的品牌以及性能特點(diǎn),幫助您了解選購(gòu)時(shí)應(yīng)該考慮哪些因素?! 【A級(jí)真空壓膜機(jī)的工作原理 晶圓級(jí)真空壓膜機(jī)主要由真空系統(tǒng)、壓力控制系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、物料夾持系統(tǒng)、涂…
查看詳情而得益于新型導(dǎo)電材料的發(fā)展,應(yīng)用于電子線路板生產(chǎn)制造的EAMP?技術(shù)日趨成熟,“材料+工藝”配套技術(shù)已實(shí)現(xiàn)全面突破,生產(chǎn)產(chǎn)品完成各端驗(yàn)證,當(dāng)下已經(jīng)發(fā)展成為一種滿足商業(yè)化標(biāo)準(zhǔn)、可大規(guī)模應(yīng)用的生產(chǎn)手段。同時(shí),這種新型線路板級(jí)電子增材制造(EAMP?)技術(shù)的出現(xiàn),可有效應(yīng)對(duì)當(dāng)前電子制造業(yè)面臨的難題。接下來,我們將深入探討線路板級(jí)EAMP?技術(shù)及其優(yōu)勢(shì)。 線路板級(jí)電子增材制造(EAMP?)技術(shù) 線…
查看詳情電子元件長(zhǎng)期在高溫、高濕等環(huán)境下運(yùn)轉(zhuǎn)將導(dǎo)致其性能惡化,甚至可能會(huì)被破壞。因而,需要采用有效的封裝方式,不斷提高封裝材料的性能,才能使得電子元件在外界嚴(yán)苛的使用環(huán)境下保持良好的穩(wěn)定性。 一、三大封裝材料統(tǒng)領(lǐng)封裝領(lǐng)域 電子封裝材料組成分來看,主要分為金屬基、陶瓷基和塑料基封裝材料?! √沾伞⑺芰稀⒔饘偃蠓庋b材料陶瓷封裝在高致密封裝中具有較大發(fā)展?jié)摿?,屬于氣密性封裝。主要材料有Al2O3、AI…
查看詳情WLCSP(Wafer-Level Chip-Scale Package)是一種將晶圓級(jí)封裝(WLP)和芯片尺寸封裝(CSP)合為一體的封裝技術(shù)。芯片尺寸封裝(CSP)是指整個(gè)package的面積相比于silicon總面積不超過120%的封裝技術(shù)。該技術(shù)有效促進(jìn)集成電路的小型化,但是其不適合服務(wù)器級(jí)處理器的應(yīng)用。晶圓級(jí)封裝(WLP)是指在晶圓前道工序完成后,直接對(duì)晶圓進(jìn)行封裝,再切割分離成…
查看詳情臺(tái)積電的庫(kù)存去化時(shí)間將比原先預(yù)期更長(zhǎng)。由于總體經(jīng)濟(jì)不佳和市場(chǎng)需求疲弱,庫(kù)存去化可能要到今年第三季才能結(jié)束。雖然受到庫(kù)存調(diào)整的持續(xù)影響,不含存儲(chǔ)器的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、晶圓代工產(chǎn)業(yè)以及臺(tái)積電本身的營(yíng)收都將衰退,但臺(tái)積電的表現(xiàn)仍將優(yōu)于產(chǎn)業(yè)平均水平?! hatGPT的走紅引起了AI風(fēng)潮,業(yè)界關(guān)注ChatGPT效應(yīng)是否有助于晶圓代工廠商的后續(xù)發(fā)展。魏哲家表示,ChatGPT確實(shí)對(duì)庫(kù)存去化有所幫助,但目前能預(yù)…
查看詳情焊點(diǎn)中空洞形成的機(jī)理多年來一直是研究的主題。已經(jīng)確定了許多空洞類型和形成機(jī)制。最引人注目的是大空洞,大空洞形成的主要因素似乎是焊膏中的化學(xué)成分。 微空洞、收縮空洞和Kirkendall空洞也是眾所周知的和備有證據(jù)的空洞類型,但不屬于本文的討論范圍。多年來已建立了許多減少空洞形成的技術(shù)?! ≌{(diào)整焊膏化學(xué)成分、回流焊溫度曲線、組件、PCB 和模板設(shè)計(jì)或涂飾,是當(dāng)前正在廣泛使用的一些優(yōu)化工具?!?/p> 查看詳情